優(yōu)異的等離子體控制系統(tǒng)，靈活兼容Thermal ALD和PEALD工藝
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多區(qū)加熱系統(tǒng)確保反應(yīng)溫度的均勻性和穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)低溫沉積均勻、優(yōu)質(zhì)的薄膜
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精準(zhǔn)制備TiO?、SiO?、Al?O?等光學(xué)薄膜，精準(zhǔn)控制各層光學(xué)參數(shù)與厚度
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AR產(chǎn)品：搭配后處理，可實(shí)現(xiàn)超低反射率<0.1%（可見光420~680nm波段）
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高載片量：根據(jù)產(chǎn)品進(jìn)行載具定制，提升效率與降低生產(chǎn)成本
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